已经在锂化的SiO中观察到各种硅酸锂，印度应链也带并且它们的表现取决于组成而完全不同。

这一发现，拉想印可以实现大规模的单晶金属箔片工业化生产。这些单晶金属箔片在表面科学、把中基础催化研究和各种其他应用领域中具有许多用途。

【成果简介】今日，国供过在韩国基础科学研究所RodneyS.Ruoff教授和Hyung-JoonShin教授（共同通讯作者）团队的带领下，国供过与蔚山国立科技研究所和成均馆大学合作，报道了一种无接触退火（CFA）策略，实现了通过商业多晶箔片普适性制备大面积单晶金属箔片。 【图文导读】图1通过CFA生产的单晶Cu（111）箔片图2通过CFA生产的单晶Pt（111）箔片图3 大面积单晶Cu的织构演变和晶粒长大图4从{112}111向{111}112方向转变的单晶fcc箔片文献链接：印度应链也带Colossalgraingrowthyieldssingle-crystalmetalfoilsbycontact-freeannealing（Science,2018,DOI：印度应链也带10.1126/science.aao3373）本文由材料人编辑部学术组木文韬翻译，材料牛整理编辑。拉想印单晶薄金属膜也可以通过沉积在单晶无机衬底的顶部制备而成

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标记为1,2和3的每个环分别表示低，拉想印中和高水平。把中c）界面处偏析生成的石墨烯的拉曼光谱（由473nm激发）。